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第1474章 加一层水（第1页）

于是，林致远，黄秘书再加上韩所长夫妻，还有司机，五个人就在附近找了家饭店，点了几个菜。

席间，韩所长继续讲他的光刻机技术，当他讲到目前世界上步进扫描光刻机采取的技术路线都是干式法，通过用更高级的曝光光源，来支撑技术进步到下一代。

为了追求更高的分辨率，光源波长从最初的365nm，到248nm，再到193nm，但再往下走时，这条技术路径出现了困难。

大部分企业选择了在原有技术路径上改进，此时的两大光刻机巨头尼康、佳能，都选择进一步研发157nm波长的光源。

韩所长说到这里里，林致远突然深吸了一口气，做出了一副不解的神态，“韩所长，我是门外汉，但是我有个问题，当然，这个问题可能是非常幼稚的，您可别笑话我。”

韩所长手一摆，“林助理，科学就是要大胆假设，小心求证，没有想象力，科学就没办法前行，你有什么问题就直说，我怎么会笑话你呢！”

林致远小心翼翼的开口了，“韩所长，我们在初中物理课上都学过，水会影响光的折射率，如果在您刚才说的步进扫描光刻机的透镜和硅片之间加一层水，就会降低光的波长，韩所长，你觉得这个方法可行吗？”

“加一层水？”

韩所长整个人似乎都傻掉了，他不停的重复这四个字。

韩所长已经完全陷入到一种极度亢奋的状态中，他旁若无人在饭店里踱起步来，越走越快，嘴里还在不停的念叨着，“林助理，你知道摩尔定律吗？”

不等林致远回答，他便自己说了下去，“摩尔定律就是集成电路上可容纳的元器件的数量每隔18至24个月就会增加一倍（相应的芯片制程也会不断缩小）。

而每一次制程前进，也会带来一次芯片性能性能的飞跃。”

“可是全世界的半导体研发团队都在157纳米波长技术前停滞不前，摩尔定律开始被人怀疑，你刚才说的很有可能由此继续将摩尔定律延续下去。

这是一个伟大的猜想，不行，我等不急了，我要马上回去做实验。”

韩所长转身就往外走，可是一只脚已经踏出饭店了，他又回过头，尴尬的一笑，“一高兴把什么都忘了，咱们没有实验室，没有相应的设备没办法做这个实验。”

他低下头继续自言自语，“一定有办法的，我必须要把这个天才的猜想变成事实。”

2002年，一位华裔林姓科学家发明了“浸润式微影技术”

，彻底改变了集成电路的生产。

这项技术是在透镜和硅片表面的间隙中，用水代替空气以提高分辨率。

当全世界的半导体研发团队都在专注于157纳米波长技术时，林姓科学家创造性地以193纳米波长的光，通过水作为介质，将其缩短至134纳米，由此继续将摩尔定律延续下去。

但理论归理论，能不能从实验室真正到工厂，还需要经验丰富的设备商一起开发。

林姓科学家去花旗国、东桑国、德意志、风车国跑了一大圈，向光刻机厂商兜售浸没式光刻的想法。

但是，绝大部分大厂都不买账。

不买账的原因除了这项技术走得太“鬼才”

，还有不少想法需要验证之外，另一个原因就是改变的沉没成本太高。

当时主流的研发思路，都是在157nm的干式光刻技术路径上。

诸多公司已经耗费了大量财力、人力、物力，如果用这种“加水”

的想法，各个研究团队就得全部重新开始，推翻原有的大部分设计。